Progress of Cryogenics and Isotopes Separation , ISSN: 1582-2575
2004, Volume 7, Issue 13+14

Nouveaux Procédés de Dépôt Chimiques en Phase de Vapeur CVD de TiO2 pour l'application photo-catalytique

Abstract

Thus ies secteurs d'activité humaine sont de plus en plus demandeurs de matériaux présentant des propriétés specifiques. La science connait ainsi ces dernieres années, un essor important pour répondre à ces exigences. Une des utilisations les plus remarquables des matériaux pendant ces dernières années est leur préparation sous formes de couches minces,
Les couches minces apportent des solutions financièrement viables à des problèmes aussi variés que l'augmentation de la durée de vie des outils de coupe, l'amelioration de la résistance à l'usure ou à la corrosion en milieux agressif ou à haute temperature, ainsi que l'amélioration du comportement au frottement, etc. Les différents procédés d'élaboration des films minces ont tous des contraintes liées à leur principe de fonctionnement
Les recherches sur la photo-catalyse ont beaucoup progressé durant les années 70 concernant le comportement photo-électrochimique des semi-conducteurs d'oxydes métalliques à large gap, grâce aux travaux de Fujishima et Honda [1]. Ces deux auteurs se sont intéressés à la dissociation de l'eou photo-induite par des électrodes de TiO₂ rutile. Dans le milieu des années 80, l'intérêt s'est porté sur d'autres applications des oxydes métalliques semi-conducteurs. La recherche s'est tournée vers la destruction de polluants par action photo-catalytique du TiO₂ dans l'eau.